一、雙工位氫氣爐用途

本產(chǎn)品可用于高真空或保護氣氛環(huán)境下進行加熱、燒結(jié)、退火、釬焊等工藝的熱處理設備，廣泛應用于金屬、陶瓷、半導體、粉末冶金等領域。具有溫度均勻性好、控溫精度高、無氧化、節(jié)能環(huán)保等特點。氫氣爐中的氫氣對材料具有良好的還原性，氫氣爐配備了好的溫度控制系統(tǒng)，實現(xiàn)控溫準確，使材料處理過程符合嚴苛的工藝要求。但在使用過程中要注意氣路、電路及水系統(tǒng)的安全，尤其要防止漏入空氣，以免引起高溫氫氣自然爆炸事故。

二、設備基本信息

本設備可兩個工位同時工作。

三、主要技術指標

1.工件材質(zhì)：陶瓷、無氧銅、可伐、鎢等；

2.設備形式：內(nèi)熱式；

3.裝載量：30KG；

4.有效區(qū)尺寸：立式Φ200（直徑）× 300（高）mm；

5.峰值溫度：1550℃；

6.工作溫度：1450℃；

7.溫度均勻性：±5 ℃（850、950、1050、1150、1300℃，5點測量）；

8.升溫速率：1-20℃/min；

9.冷態(tài)極限真空度：2kPa；

10.真空系統(tǒng)：預抽真空系統(tǒng)；

11.冷卻系統(tǒng)：無快冷系統(tǒng)；

12.工藝氣氛：H2、N2；

13.選配項目：托料盤、濕氫系統(tǒng)；

14.爐子結(jié)構為爐底固定，爐罩上升方式；

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