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當前標簽:磁控濺射鍍膜機
四川磁控濺射鍍膜機的產(chǎn)品介紹: 一、用途: 磁控濺射鍍膜設(shè)備主要用于在基片上鍍制金屬、半導體、電介質(zhì)、多元素化合物或混合物。利用濺射法可制備金屬膜、半導體膜、絕緣膜、硬質(zhì)膜、耐熱膜、耐腐蝕膜、超導膜、磁性膜、光學膜等各種特殊性能的薄膜。...
型號 :ZCL-700 一、真空室:1. 形式:雙腔室結(jié)構(gòu),中間配置閘板閥;A、濺射室:700(寬)x700(深)x600mm(高),后開門;配置3個 CF35法蘭,軸心指向工作臺,用于觀測,觀測路徑上不得有阻擋;另設(shè)置φ100mm觀測窗一...
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